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第二百一十二章 请先生赴死!

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让我晚上睡不着觉。

而且,老实说,你成为烈士,我的利益可以最大化。”

程进抹了抹脸庞,笑了,“谢谢!”

抽了一张纸巾擤擤鼻涕后,他吸了吸鼻子,脸上却浮现起坚毅的神情,“需要我做什么?”

卿云递过去一张照片,“后天,荷兰有一个半导体行业的峰会,我用炎黄集团的名义搞到了一张邀请函。

你在明珠港转机的时候,会遇见他,杀了他。”

程进闻言皱起了眉头,“怎么是他?”

他的疑惑有很多,比如怎么杀,杀了之后他又该如何,当场自杀?

但相比起照片上的人而言,这些都是细枝末节了。

在他看来,这太不可思议了。

云帝乜了他一眼,“认识?”

程进回了一个白眼,“废话!我也是干这行的!虽然我确实水了点,但我毕竟是做科研的,行业领域内什么新动向我还是知道的。”

他手指点了点照片,“林本坚,夷积电高级工程师,在当前193nm光刻光源停滞了二十多年无法突破下,去年提出了浸入式光刻技术,算是一个另辟蹊径的发展方向。”

说到这里,他摇了摇头,“但是,他的理论,并不被当前的市场所接受。去年提出的时候,没有市场买单。

现在的路径一共四大阵营,尼康占主导的157nm激光、因特尔BMD摩托骡拉联合的13.5nmEUVLLC、NEC托西巴NTT和IBM联合的1nm接近式X光、朗讯贝尔实验室高的0.004nmEPL和0.00005nmIPL。

后面两个算是浪漫阵营,纯理论研究,他们就没想过产业化的事情。

而EUV太超前,短期内根本无法实现。

我个人还是更看好尼康的干式157nm技术路径。”

卿云笑了,他懒得和程进扯什么科学英雄史观的问题,更没兴趣和他聊技术路径路径,开口说道,

“荷兰的ASML正在和林本坚一起共同攻坚浸入式光刻技术。”

程进闻言摇了摇头,“没用的,浸入式通过水滴折射确实可以跳过157nm,直接做到134nm波长,而后就会被65nm的最高生产分辨率给卡住,到时候怎么办?

小卿,光刻是要遵循瑞利公式的,λ为光源波长、NA为数值孔径、k为光刻工艺系数,三者共同决定投影式光刻机分辨率CD。

光刻机的分辨


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